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无锡先为科技申请气体分配装置和CVD设备专利,提高匀气效果

信息来源:plantb2b.com   时间: 2025-10-03  浏览次数:1164


本文源自:金融界

金融界2025年7月1日消息,国家知识产权局信息显示,无锡先为科技有限公司申请一项名为“一种气体分配装置和CVD设备”的专利,公开号CN120231019A,申请日期为2023年12月。

专利摘要显示,本发明提供了一种气体分配装置和CVD装置,气体分配装置包括进气管路和匀气层。匀气层包括位于顶壁和底壁之间的出气结构及位于出气结构内侧的匀气组件,匀气层还依次包括位于匀气组件内侧的第一空间、位于匀气组件和出气结构之间的第二空间;出气结构呈环状围绕第二空间设置,出气结构包括沿其周向均匀排布的多个出气孔,匀气组件包括呈环形设置的第一匀气结构,第一匀气结构沿其周向设有多个连通第一匀气结构内外两侧的第一气流通道。通过在匀气层内设置第一匀气结构,并通过调整第一匀气结构的第一气流通道的出口处延伸方向向第一匀气结构的周向偏斜,以促使通过第一匀气结构的气流在周向上流动,提高气流在该周向的均匀性,以提高匀气效果。

天眼查资料显示,无锡先为科技有限公司,成立于2020年,位于无锡市,是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本11766.6667万人民币。通过天眼查大数据分析,无锡先为科技有限公司参与招投标项目5次,财产线索方面有商标信息39条,专利信息66条,此外企业还拥有行政许可7个。


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